（氧）等离子体是目前使用中最常用的等离子体清洗技术。Pluto是利用氧气作为等离子源用于清洁，比如我们的PM入门级等离子清洗机。我们所建的所有等离子清洗机都将与氧气气体一起工作。
氧气是常用的用于非金属材料的处理，如玻璃，塑料，聚四氟乙烯。氧气也很便宜，易于获得，也可以在实验室里购买和设置氧气发生器。
和其它形式的Plasma一样，氧清除有机物，也能进行表面改性。例如，氧等离子体将清洗塑料试样的表面，增加其润湿性。然而，精确控制时间是必要的；如果氧等离子体应用太久，可能会导致塑料样品损坏。
氧等离子体是不适合应用于银样品。氧会腐蚀含银的金属。
等离子体灰化
等离子体灰化的目标一般是有机物的去除，包括碳的氧化物和水蒸气，都是易挥发的。所有被清除的污染物被真空泵抽出腔体。氧等离子体去除有机物的所有痕迹。
氧气和氩气
所有的等离子蚀刻进入等离子处理解决方案是使用氧气或氩气，如果样品情况特殊，也可以使用其他气体。氧气和氩气很容易储存，可以满足大多数客户的需求。
氧气和氩气最显著的区别是，氧等离子体处理是能够表面改性，而氩气是不能。如果在Plasma过程中太长时间使用氧气，可能会使一些塑料表面的粘合力下降，使其不进行便面修饰，而氩气可以安全使用更长时间。
氧和CF4
O2还可以混合CF4在较大的等离子体处理的解决方案，如Pluto160反应离子刻蚀应用。
