等离子镀膜是指在真空条件下,利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化,在气体离子或者被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物
沉积在基片上。等离子镀膜把气体的辉光放电、等离子体技术与真空蒸发镀膜结合在一起,不仅明显的提高了镀层的各种性能,而且大大地扩充了
镀膜技术应用范围。近年来在国内外都得到迅速发展。
等离子镀膜的原理:
· 基片为阴极,蒸发源为阳极建立一个低压气体放电的等离子区
· 镀材被气化后,蒸发粒子进入等离子区被电离,形成离子,被电场加速后淀积到基片上成膜
· 淀积和溅射同时进行
等离子镀膜的的必要条件:
· 造成一个气体放电的空间
· 将镀膜原子(金属原子或者非金属原子)引进放电空间,使其部分离化
等离子镀膜的优点:
1. 膜层附着性好,溅射清洗,伪扩散层形成
2. 膜层密度高(与块体材料相同),正离子轰击
3. 绕射性能好
4. 可镀材料范围广泛
5. 有利于化合物膜层的形成
6. 沉积速度高,成膜速率快
7. 清晰工序简单,对环境无污染
上海沛沅Pluto-MC等离子涂覆镀膜设备是在Pluto等离子清洗机的基础上增加涂覆组件,实现涂覆镀膜的功能。该设备设有储料腔、
加热装置、保温装置和流量控制装置,具有性能优异,高精度控制,多参数设置,可控性佳等特点。