玻璃是日常生活中非常常见的一种材料，除了用作建材外，玻璃还是涂层、覆膜等工艺的常用载体。由于玻璃具有化学惰性，受环境影响性质稳定，用常规

的清洗方法对玻璃基片进行清洗干燥处理，难以彻底清除吸附在表面的异物。玻璃材料经等离子表面处理机清洗处理后，可立即进入下一工序。因此，玻璃

等离子体表面处理是一个稳定而有效的工艺过程。不仅能有效去除吸附在基片上的环境气体分子、水汽和污染物，基片表面会形成清洁活化的微观粗糙面，

而且避免了二次污染。

    本实验采用PLUTO-M等离子清洗机对玻璃基片表面的高分子膜污染物进行清除

    处理条件：氧气，13.56MHz

    结论：经过PLUTO-M等离子清洗机处理后，可见玻璃表面的高分子膜污染物基本已被清除，表面能得到改善。