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新闻资讯
  • 等离子百科 2024-07-25
      等离子体表面处理机对材料耐腐蚀性的影响
    随着科技的不断进步，等离子体表面处理机在各种领域中得到了广泛的应用。这种技术的原理是利用等离子体在高温和高压下产生的电弧放电，对物体表面进行化学改性，从而改善其性能。其中，最显著的效果之一就是提高材料的耐腐蚀性。本文将详细探讨等离子体表面处理机如何影响材料的耐腐蚀性。

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  • 等离子百科 2024-07-18
      国产等离子清洗机在半导体制造领域的优势
    随着科技发展的日新月异，半导体行业已经成为全球经济的重要支柱，为社会进步和人类生活带来了巨大的便利。而在这个领域中，设备的精密度和清洁度对产品性能的影响不可忽视。其中，国产等离子清洗机以其独特的清洗技...

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  • 12

    2026-11

    行业资讯

    破解低温等离子体的非平衡密码
    破解低温等离子体的非平衡密码：刻蚀又快又冷的核心原理是什么？在半导体制造的刻蚀工序里，有一个看似矛盾的现象：腔体内的化学反应剧烈到能精准刻蚀纳米级图形，晶圆本身却始终保持接近室温的...

  • 05

    2026-11

    行业资讯

    ICP 为何能独立调控离子密度与能量？半导体工艺的核心优势
    PLUTO-ICP等离子刻蚀机在半导体刻蚀、薄膜沉积等等离子体工艺中，ICP（感应耦合等离子体）早已成为高端制程的核心设备。相较于传统RIE反应离子刻蚀的短板，ICP最核心的杀手锏...

  • 29

    2026-10

    行业资讯

    真空等离子清洗机起辉腔体打火（Arcing）原因与解决办法
    原理简述：等离子清洗机起辉瞬间射频电场建立，腔体内局部电场强度超过气体击穿阈值，就会形成电弧打火；打火多发生在尖角、金属毛刺、绝缘件爬膜、真空不稳、匹配失谐这几类场景，严重会烧电极...

  • 22

    2026-10

    行业资讯

    ICP、CCP、RIE 的区别与应用场景-微纳加工等离子刻蚀选型指南
    在微纳加工、半导体与 MEMS 科研实验室里，ICP、CCP、RIE 都属于等离子体干法刻蚀设备，很多人容易混淆。三者核心差异来自等离子体产生方式、电源架构，以及离子密度与离子能量...

  • 15

    2026-10

    行业资讯

    ICP与RIE的本质区别：等离子体耦合机制是关键
    在半导体干法刻蚀工艺中，RIE（反应等离子刻蚀机）与ICP（电感耦合等离子刻蚀机）是两款核心设备。多数人只知晓ICP等离子密度更高、刻蚀效果更好，却不懂二者的底层差异。其实所有工艺...
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