上海沛沅

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CCP等离子介质刻蚀机
PLUTO-CCP150是面向科研及企业研发客户使用需求设计的高性价比CCP等离子介质刻蚀机系统。作为一个多功能系统，它通过优化的系统设计与灵活的配置方案，获得高性能CCP刻蚀工艺。该设备结构紧凑占地面积小，专业的机械设计与优化的自动化操作软件使察该设备操作简便、安全，且工艺稳定重复性极佳。
ICP干法等离子刻蚀机
PLUTO-WIN是面向科研及企业研发客户使用需求设计的高性价比ICP等离子体系统。作为一个多功能系统，它通过优化的系统设计与灵活的配置方案，获得高性能ICP刻蚀工艺。该设备结构紧凑占地面积小，专业的机械设计与优化的自动化操作软件使该设备操作简便、安全，且工艺稳定重复性很好。