上海沛沅

PLUTO-M(8L)等离子清洗机/等离子处理机
PLUTO-M型等离子体表面处理系统是针对于高校，科学研究所和企业实验室，或者小批量生产的创新性企业而研发的创新型实验平台。我们收集了大量客户使用信息，分析应用需求，将多年设计和制造经验应用于小型化，多功能的等离子体表面处理设备。无论是设计理念，零配件的选用，都倾注大量精力。针对用户不同的需求，我们提供对应配件，在获得常规性能的同时，拥有表面镀膜（涂层），刻蚀，等离...
PLUTO-T(4.3L)实验室桌面小型等离子清洗机
PLUTO-T等离子清洗机具有性能稳定、性价比高、操作简便、使用成本极低、易于维护的特点。对各种几何形状、表面粗糙程度各异的金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面进行超清洗和改性。完全彻底地清除样品表面的有机污染物。
Pluto-MD(8L)小型等离子去胶机
去胶工艺是微加工过程中一个重要的过程，在电子束曝光，紫外曝光等微纳米加工工艺后，都要对光刻胶进行去除或打底膜处理。光刻胶是否去除干净对样片是否有损伤等问题，将直接影响后续工艺的顺利完成。PLUTO-MD使用性能出色的组件和软件，可对工艺参数进行精确控制。它的工艺监测和数据采集软件可实现严格的质量控制。该技术已经成功的应用于功率晶体管、模拟器件、传感器、光学器件、光电...
PLUTO-MC(8L) 真空等离子体涂覆（镀膜）设备
Pluto-MC利用等离子体改性时，将试样置于特定的离子处理装置中，通过高能态的等离子轰击试样的表面，将能量传递给试样表层的分子，使试样发生热蚀、交联、降解和氧化反应，并使试样表面发生C-F键和C-C键的断裂，产生大量自由基或引进某些极性基团，从而优化试样表面的性能。
CCP等离子介质刻蚀机
PLUTO-CCP150是面向科研及企业研发客户使用需求设计的高性价比CCP等离子介质刻蚀机系统。作为一个多功能系统，它通过优化的系统设计与灵活的配置方案，获得高性能CCP刻蚀工艺。该设备结构紧凑占地面积小，专业的机械设计与优化的自动化操作软件使察该设备操作简便、安全，且工艺稳定重复性极佳。
PLUTO-30(30L)等离子清洗机
PLUTO-30是专为研发而设计的全功能等离子体系统，13.56MHz射频发生器和自动匹配网络电源在整个过程区域产生均匀的等离子体。Pluto30的真空腔可支持多达7个可调节样品架，以容纳各种形状尺寸的样品。Pluto30具有多种电极设置，可配置成RIE和PECVD模式，从而扩大了该系统的应用范围，提供给用户良好的灵活性。
PLUTO-80 等离子清洗机/表面处理系统
PLUTO-80是专为研发而设计的全功能等离子体系统，13.56MHz射频发生器和自动匹配网络电源在整个过程区域产生均匀的等离子体。Pluto80的真空腔可支持多达7个可调节样品架，以容纳各种形状尺寸的样品。Pluto80具有多种电极设置，可配置成RIE和PECVD模式，从而扩大了该系统的应用范围，提供给用户无与伦比的灵活性。
PLUTO等离子-PDMS微流控表面处理设备
高校和研究机构的客户具有样品种类多的特点，在完成预定实验的同时，还希望具有更多的应用功能和良好的性能而这一切，PLUTO-T可以完美实现客户的不同应用的需求。针对PDMS的应用，我们已经有很多客户通过我们的设备实现这一应用。
PLUTO-F(14.5L)实验室方腔等离子清洗机
PLUTO-F型等离子体表面处理系统是一款功能强大的桌面型表面等离子体设备，非常适合于高校、科学研究所和企业实验室，或者小批量生产，需要低成本运作且高效处理的企业。它具备等离子设备几乎所有的功能，具有较大的腔体尺寸和灵活的电极配置方式。
PLUTO-MH等离子处理机/等离子去胶机
PLUTO-MH型等离子体表面处理系统是针对于高校，科学研究所和企业实验室，或者小批量生产的创新性企业而研发的创新型实验平台。我们收集了大量客户使用信息，分析应用需求，将多年设计和制造经验应用于小型化，多功能的等离子体表面处理设备。无论是设计理念，零配件的选用，都倾注大量精力。针对用户不同的需求，我们提供不同功能附件，在获得常规性能的同时，拥有表面镀膜（涂层），刻蚀...

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