PLUTO-ATMOS 常压等离子涂覆镀膜系统

Pluto-Atmos是一种基于频率为13.56MHz（射频）等离子体技术的新型表面涂覆设备。

是一种强大的新涂层工艺，利用大气压等离子体设备在任何大小或形状的样品上通过扫描的方式获得均匀的涂层。

Pluto-Atmos可以沉积多种材料涂层，包括碳基和硅基聚合物、玻璃、氮化硅、金属氮化物和碳化物等。

这些涂层的厚度从50nm到3.0um不等，可用于防潮，耐磨、防腐蚀和许多其他应用。

等离子体中的电子（不是热量）激发反应物进行沉积，使涂层过程在相对较低的温度下进行。

薄膜生长速率从0.1um/分钟到10.0um/分钟不等。

需要注意的是，常压等离子体涂覆的速率比物理气相沉积要慢。

然而，正因为许多材料不易蒸发或溅射，在这个时候，等离子涂层是一个比较理想的方法。

1.频率：13.56MHz 射频发生器  功率0~500W 自动阻抗匹配电源

2.喷头直径40mm，有效工作面积：直径20mm，

3.工作距离2-20mm

4.气源压力：2mp

5.控制：PLC+

使用Pluto-Atmos等离子涂层的设备可以沉积许多不同的材料，通过选择合适的活性气体，如氧气、氮气、氢气等，和合适的反应前驱体,如SiL4, AlL3, TiL4 PtL6（L表示是一个稳定且有挥发性分子基团）,可以得到适合的沉积物。

如果想要沉积较薄的聚合物的薄膜，可以使用一个特别设计的单体,如四甲基硅烷。

具体的需求，需要大量的实验来优化设计和工艺条件。

我们可以帮助客户在我们的实验室里，一起确定具体的涂料所需的工艺条件。

Pluto-Atmos涂覆系统为薄膜涂层提供了一种革命性的新方法。

某些新材料过去只能在昂贵的真空系统中生产，现在可以用低成本的手持等离子设备涂覆在几乎任何结构上。