北京理工大学的客户使用PLUTO-M型实验室等离子清洗机，主要应用硅片刻蚀后光刻胶清除
PLUTO-M型等离子体表面处理系统是针对于高校，科学研究所和企业实验室，或者小批量生产的创新性企业而研发的创新型实验平台。
真空腔规格: 不锈钢腔体,直径215mm*(深)235mm;容积8.3L
处理面积4寸125mm*125mm,可升级至6寸
大连理工大学客户，安装是PLUTO-F方腔的等离子清洗机，主要应用是高分子膜的改性和清洗
PLUTO-F型等离子体表面处理系统（14.5L）是一款功能强大的桌面型表面等离子体设备，非常适合于高校，科学研究所和企业实验室，或者小批量生产；需要低成本运作；高效处理的企业。具备等离子设备几乎所有的功能，具有较大的腔体尺寸和灵活的电极配置方式。可用于更大的型的应用，包括生产水平的应用.
真空腔规格: 材质6061-T6铝合金 240mm*300mm*200mm
电极：平板气浴电极，材质6061-T6铝合金
电极尺寸：205mm *205mm
频率：13.56MHz (可选配40KHz射频等离子源)
功率：0-500W连续可调，精度1W,可在设备运行中随时调整参数
