等离子体清洗机使用各种气体，表面清洗和激活通常使用氧、氢、氮和压缩空气，但氩也根据工艺要求使用。那么为什么要使用这种气体，以及它在等离子体清洗机中的主要作用呢？沛沅来为大家解答一下。
氩是一种单原子分子，是一种无色、无臭、无味的气体。它是空气中稀有气体中含量最高的一种。由于它在自然界中含量很高，氩是最早发现的稀有气体。化学性质非常不活跃，但它的化合物氟氩化氢已经制成。
氩气的主要用途是它的惰性，可以保护一些容易与周围物质发生反应的东西。虽然其他惰性气体也有这些特性，但氩气在空气中含量最高，也是最容易获得的，所以相对便宜，经济效益好。
氩电离产生的离子体与基体无化学反应。在等离子体清洗中，氩主要用于基体表面的物理清洗和表面粗化。因此，氩等离子体清洗机广泛应用于半导体、微电子、晶圆制造等行业。
一、表面清洁。
在去除晶圆、玻璃等产品表面颗粒的过程中，通常使用等离子体轰击表面颗粒，以实现颗粒的分散和松动，然后进行离心清洗。特别是在半导体包装过程中，为了防止导线氧化，采用氩等离子体或氩氢等离子体清洗表面。
二、表面粗化。
等离子体清洗机的表面粗糙度也称为表面腐蚀，旨在提高材料的表面粗糙度，从而增加材料的粘结、印刷和焊接。活性气体处理后也可增加表面张力，但氩离子产生的颗粒相对较重，氩离子在电场作用下的动能明显高于活性气体，因此其粗化效果更明显，广泛应用于无机表面粗化过程中。如玻璃基材表面处理、金属基材表面处理等。
三、活性气体辅助。
在等离子体清洗机的活化和清洗过程中，混合过程中的气体会取得相对较好的效果。由于氩分子量大，电离后产生的颗粒比较后，表面清洗和活化通常与活性气体结合，最常见的是氩和氧的混合物。
